Si衬底的氮化处理对ZnO薄膜质量的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 申德振
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| 刊名 | 光电子·激光
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| 出版日期 | 2003-08-25 |
| 期号 | 08页码:783-786 |
| 关键词 | ZnO Si衬底 氮化 等离子增强化学气相沉积(PECVD) |
| 公开日期 | 2013-03-11 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/28745]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 申德振. Si衬底的氮化处理对ZnO薄膜质量的影响[J]. 光电子·激光,2003(08):783-786. |
| APA | 申德振.(2003).Si衬底的氮化处理对ZnO薄膜质量的影响.光电子·激光(08),783-786. |
| MLA | 申德振."Si衬底的氮化处理对ZnO薄膜质量的影响".光电子·激光 .08(2003):783-786. |
入库方式： OAI收割
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