p-Si薄膜生长的ECR-CVD等离子体系统的结构设计
文献类型：期刊论文
| 作者 | 刘永刚 ; 胡立发; 宣丽
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| 刊名 | 液晶与显示
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| 出版日期 | 2004-06-26 |
| 期号 | 03页码:199-201 |
| 关键词 | 电子回旋共振 微波等离子体 p-Si薄膜 |
| 公开日期 | 2013-03-11 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/29146]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘永刚,胡立发,宣丽. p-Si薄膜生长的ECR-CVD等离子体系统的结构设计[J]. 液晶与显示,2004(03):199-201. |
| APA | 刘永刚,胡立发,&宣丽.(2004).p-Si薄膜生长的ECR-CVD等离子体系统的结构设计.液晶与显示(03),199-201. |
| MLA | 刘永刚,et al."p-Si薄膜生长的ECR-CVD等离子体系统的结构设计".液晶与显示 .03(2004):199-201. |
入库方式： OAI收割
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