低压反应离子镀方法制备ITO透明导电膜
文献类型：期刊论文
| 作者 | 高劲松 ; 王笑夷
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| 刊名 | 光学技术
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| 出版日期 | 2005-09-20 |
| 期号 | 05页码:669-671 |
| 关键词 | 低压反应离子镀 ITO透明导电膜 透过率 方块电阻 |
| 公开日期 | 2013-03-11 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/29236]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 高劲松,王笑夷. 低压反应离子镀方法制备ITO透明导电膜[J]. 光学技术,2005(05):669-671. |
| APA | 高劲松,&王笑夷.(2005).低压反应离子镀方法制备ITO透明导电膜.光学技术(05),669-671. |
| MLA | 高劲松,et al."低压反应离子镀方法制备ITO透明导电膜".光学技术 .05(2005):669-671. |
入库方式： OAI收割
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