粗糙度对极紫外投影光刻掩模的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 金春水
|
| 刊名 | 光电工程
 |
| 出版日期 | 2005-10-30 |
| 期号 | 10页码:80-83 |
| 关键词 | 极紫外投影光刻 掩模 粗糙度 反射光谱 多层膜 |
| 公开日期 | 2013-03-11 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/29250]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 金春水. 粗糙度对极紫外投影光刻掩模的影响[J]. 光电工程,2005(10):80-83. |
| APA | 金春水.(2005).粗糙度对极紫外投影光刻掩模的影响.光电工程(10),80-83. |
| MLA | 金春水."粗糙度对极紫外投影光刻掩模的影响".光电工程 .10(2005):80-83. |
入库方式： OAI收割
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。