多晶硅薄膜晶体管工艺中的反应性离子刻蚀
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王大海 ; 李轶华 ; 孙艳 ; 吴渊 ; 陈国军 ; 付国柱 ; 荆海 ; 万春明 |
| 刊名 | 液晶与显示
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| 出版日期 | 2002-02-28 |
| 期号 | 01页码:59-64 |
| 关键词 | 多晶硅薄膜晶体管 反应性离子刻蚀 刻蚀速率 选择比 |
| 公开日期 | 2013-03-11 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/29589]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王大海,李轶华,孙艳,等. 多晶硅薄膜晶体管工艺中的反应性离子刻蚀[J]. 液晶与显示,2002(01):59-64. |
| APA | 王大海.,李轶华.,孙艳.,吴渊.,陈国军.,...&万春明.(2002).多晶硅薄膜晶体管工艺中的反应性离子刻蚀.液晶与显示(01),59-64. |
| MLA | 王大海,et al."多晶硅薄膜晶体管工艺中的反应性离子刻蚀".液晶与显示 .01(2002):59-64. |
入库方式： OAI收割
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