中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
多晶硅薄膜晶体管工艺中的反应性离子刻蚀

文献类型:期刊论文

作者王大海 ; 李轶华 ; 孙艳 ; 吴渊 ; 陈国军 ; 付国柱 ; 荆海 ; 万春明
刊名液晶与显示
出版日期2002-02-28
期号01页码:59-64
关键词多晶硅薄膜晶体管 反应性离子刻蚀 刻蚀速率 选择比
公开日期2013-03-11
源URL[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/29589]  
专题长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
王大海,李轶华,孙艳,等. 多晶硅薄膜晶体管工艺中的反应性离子刻蚀[J]. 液晶与显示,2002(01):59-64.
APA 王大海.,李轶华.,孙艳.,吴渊.,陈国军.,...&万春明.(2002).多晶硅薄膜晶体管工艺中的反应性离子刻蚀.液晶与显示(01),59-64.
MLA 王大海,et al."多晶硅薄膜晶体管工艺中的反应性离子刻蚀".液晶与显示 .01(2002):59-64.

入库方式: OAI收割

来源:长春光学精密机械与物理研究所

浏览0
下载0
收藏0
其他版本

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。