利用去湿现象制备图案化的离子刻蚀聚合物保护层
文献类型：期刊论文
| 作者 | 曹召良 ; 卢振武
|
| 刊名 | 高等学校化学学报
 |
| 出版日期 | 2003-01-15 |
| 期号 | 12页码:2390-2392 |
| 关键词 | 聚合物 去湿 微接触印刷 自组装单层膜 离子刻蚀 |
| 公开日期 | 2013-03-11 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/29927]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 曹召良,卢振武. 利用去湿现象制备图案化的离子刻蚀聚合物保护层[J]. 高等学校化学学报,2003(12):2390-2392. |
| APA | 曹召良,&卢振武.(2003).利用去湿现象制备图案化的离子刻蚀聚合物保护层.高等学校化学学报(12),2390-2392. |
| MLA | 曹召良,et al."利用去湿现象制备图案化的离子刻蚀聚合物保护层".高等学校化学学报 .12(2003):2390-2392. |
入库方式： OAI收割
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。