X射线W/B_4C宽带多层膜的优化设计和制备
文献类型:期刊论文
作者 | 张立超![]() ![]() |
刊名 | 光学学报
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出版日期 | 2005-10-17 |
期号 | 10页码:139-141 |
关键词 | X射线光学 宽带多层膜 评价函数 遗传算法 磁控溅射 |
公开日期 | 2013-03-11 |
源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/30025] ![]() |
专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 张立超,金春水. X射线W/B_4C宽带多层膜的优化设计和制备[J]. 光学学报,2005(10):139-141. |
APA | 张立超,&金春水.(2005).X射线W/B_4C宽带多层膜的优化设计和制备.光学学报(10),139-141. |
MLA | 张立超,et al."X射线W/B_4C宽带多层膜的优化设计和制备".光学学报 .10(2005):139-141. |
入库方式: OAI收割
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