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X射线W/B_4C宽带多层膜的优化设计和制备

文献类型:期刊论文

作者张立超; 金春水
刊名光学学报
出版日期2005-10-17
期号10页码:139-141
关键词X射线光学 宽带多层膜 评价函数 遗传算法 磁控溅射
公开日期2013-03-11
源URL[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/30025]  
专题长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
张立超,金春水. X射线W/B_4C宽带多层膜的优化设计和制备[J]. 光学学报,2005(10):139-141.
APA 张立超,&金春水.(2005).X射线W/B_4C宽带多层膜的优化设计和制备.光学学报(10),139-141.
MLA 张立超,et al."X射线W/B_4C宽带多层膜的优化设计和制备".光学学报 .10(2005):139-141.

入库方式: OAI收割

来源:长春光学精密机械与物理研究所

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