发光二极管阵列中上隔离沟槽的设计与制备
文献类型：期刊论文
| 作者 | 梁静秋
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| 刊名 | 微细加工技术
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| 出版日期 | 2005-12-30 |
| 期号 | 04页码:76-80 |
| 关键词 | 微显示器件 发光二极管阵列 隔离沟槽 湿法腐蚀 欧姆接触 AlGaInP GaP |
| 公开日期 | 2013-03-11 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/30335]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 梁静秋. 发光二极管阵列中上隔离沟槽的设计与制备[J]. 微细加工技术,2005(04):76-80. |
| APA | 梁静秋.(2005).发光二极管阵列中上隔离沟槽的设计与制备.微细加工技术(04),76-80. |
| MLA | 梁静秋."发光二极管阵列中上隔离沟槽的设计与制备".微细加工技术 .04(2005):76-80. |
入库方式： OAI收割
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