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磁控溅射法制备Mo/B_4C软X射线多层膜

文献类型:期刊论文

作者陈星旦
刊名真空科学与技术
出版日期1999-04-15
期号02页码:67-69
关键词软X射线多层膜 磁控溅射 Mo/B4C
公开日期2013-03-11
源URL[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/31052]  
专题长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
陈星旦. 磁控溅射法制备Mo/B_4C软X射线多层膜[J]. 真空科学与技术,1999(02):67-69.
APA 陈星旦.(1999).磁控溅射法制备Mo/B_4C软X射线多层膜.真空科学与技术(02),67-69.
MLA 陈星旦."磁控溅射法制备Mo/B_4C软X射线多层膜".真空科学与技术 .02(1999):67-69.

入库方式: OAI收割

来源:长春光学精密机械与物理研究所

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