接近式光刻中刻划间隙对刻线质量的影响分析
文献类型：期刊论文
| 作者 | 付永启 ; 朱应时 |
| 刊名 | 光学精密工程
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| 出版日期 | 1996-10-30 |
| 期号 | 05页码:112-116 |
| 关键词 | 接近式光刻 刻划间隙 刻线质量 |
| 公开日期 | 2013-03-11 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/31663]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 付永启,朱应时. 接近式光刻中刻划间隙对刻线质量的影响分析[J]. 光学精密工程,1996(05):112-116. |
| APA | 付永启,&朱应时.(1996).接近式光刻中刻划间隙对刻线质量的影响分析.光学精密工程(05),112-116. |
| MLA | 付永启,et al."接近式光刻中刻划间隙对刻线质量的影响分析".光学精密工程 .05(1996):112-116. |
入库方式： OAI收割
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