接近式光刻刻划间隙的确定
文献类型：期刊论文
| 作者 | 付永启 |
| 刊名 | 仪器仪表学报
 |
| 出版日期 | 1997-08-20 |
| 期号 | 04页码:81-84+97 |
| 关键词 | 刻划间隙:7286 接近式光刻:5937 刻线质量:2182 线密度:1418 光强度分布:1194 菲涅耳衍射:1113 掩模板:949 衍射效应:715 泰伯效应:634 定量分析:622 |
| 公开日期 | 2013-03-11 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/31680]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 付永启. 接近式光刻刻划间隙的确定[J]. 仪器仪表学报,1997(04):81-84+97. |
| APA | 付永启.(1997).接近式光刻刻划间隙的确定.仪器仪表学报(04),81-84+97. |
| MLA | 付永启."接近式光刻刻划间隙的确定".仪器仪表学报 .04(1997):81-84+97. |
入库方式： OAI收割
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