大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测──等离子发射光谱法
文献类型:期刊论文
作者 | 米宝永 |
刊名 | 光学精密工程
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出版日期 | 1996-06-30 |
期号 | 03页码:75-80 |
关键词 | 等离子体 发射光谱 在线监测 刻蚀 大规模集成电路 终点 |
公开日期 | 2013-03-11 |
源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/32419] ![]() |
专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 米宝永. 大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测──等离子发射光谱法[J]. 光学精密工程,1996(03):75-80. |
APA | 米宝永.(1996).大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测──等离子发射光谱法.光学精密工程(03),75-80. |
MLA | 米宝永."大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测──等离子发射光谱法".光学精密工程 .03(1996):75-80. |
入库方式: OAI收割
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