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大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测──等离子发射光谱法

文献类型:期刊论文

作者米宝永
刊名光学精密工程
出版日期1996-06-30
期号03页码:75-80
关键词等离子体 发射光谱 在线监测 刻蚀 大规模集成电路 终点
公开日期2013-03-11
源URL[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/32419]  
专题长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
米宝永. 大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测──等离子发射光谱法[J]. 光学精密工程,1996(03):75-80.
APA 米宝永.(1996).大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测──等离子发射光谱法.光学精密工程(03),75-80.
MLA 米宝永."大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测──等离子发射光谱法".光学精密工程 .03(1996):75-80.

入库方式: OAI收割

来源:长春光学精密机械与物理研究所

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