大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测──等离子发射光谱法
文献类型：期刊论文
| 作者 | 米宝永 |
| 刊名 | 光学精密工程
 |
| 出版日期 | 1996-06-30 |
| 期号 | 03页码:75-80 |
| 关键词 | 等离子体 发射光谱 在线监测 刻蚀 大规模集成电路 终点 |
| 公开日期 | 2013-03-11 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/32419]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 米宝永. 大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测──等离子发射光谱法[J]. 光学精密工程,1996(03):75-80. |
| APA | 米宝永.(1996).大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测──等离子发射光谱法.光学精密工程(03),75-80. |
| MLA | 米宝永."大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测──等离子发射光谱法".光学精密工程 .03(1996):75-80. |
入库方式： OAI收割
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。