磁流体辅助抛光的材料去除和表面粗糙度研究
文献类型：会议论文
| 作者 | 张峰 ; 张斌智
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| 出版日期 | 2005-09-01 |
| 会议地点 | 中国山东烟台;中国桂林 |
| 关键词 | 超光滑表面 磁纳米材料 流体辅助抛光 |
| 中文摘要 | 建立在电磁学和流体动力学理论之上的磁流体辅助抛光可以实现对光学元件的超光滑加工。建立了磁流体抛光的数学模型,介绍了加工原理和的抛光设备。通过实验讨论了磁性微粒粒度和磁流体粘度对加工结果的影响。 |
| 收录类别 | 中国会议 |
| 会议录出版者 | 光学技术杂志社 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/32719]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出_会议论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张峰,张斌智. 磁流体辅助抛光的材料去除和表面粗糙度研究[C]. 见:. 中国山东烟台;中国桂林. |
入库方式： OAI收割
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