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TiO2纳米薄膜的制备及其紫外-可见光谱研究

文献类型:期刊论文

作者李红轩; 冶银平; 崔海霞
刊名材料工程
出版日期2008
期号10页码:261-264
关键词磁控溅射 TiO2纳米薄膜 紫外-可见光谱 禁带宽度 magnetron sputtering anatase TiO2 nanofilms UV-vis spectrum optical energy band gap
ISSN号1001-4381
通讯作者冶银平
中文摘要摘要: 用磁控溅射技术在普通载玻片上制备了不同厚度透明的锐钛矿相二氧化钛(TiO2 )纳米薄膜, 利用 X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)等分析方法对试样进行表征, 并测试了其紫外2可见透射光谱, 计算了此薄膜的禁带宽度, 其值接近 TiO2禁带宽度的理论值 3.2eV。
学科主题材料科学与物理化学
收录类别CSCD
资助信息国家自然科学基金(50575217;50705093)
语种中文
公开日期2013-03-28
源URL[http://210.77.64.217/handle/362003/2728]  
专题兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室
兰州化学物理研究所_先进润滑与防护材料研究发展中心
通讯作者冶银平
推荐引用方式
GB/T 7714
李红轩,冶银平,崔海霞. TiO2纳米薄膜的制备及其紫外-可见光谱研究[J]. 材料工程,2008(10):261-264.
APA 李红轩,冶银平,&崔海霞.(2008).TiO2纳米薄膜的制备及其紫外-可见光谱研究.材料工程(10),261-264.
MLA 李红轩,et al."TiO2纳米薄膜的制备及其紫外-可见光谱研究".材料工程 .10(2008):261-264.

入库方式: OAI收割

来源:兰州化学物理研究所

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