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GaN基日盲型紫外探测器面阵及其制作方法

文献类型:专利

作者颜廷静
发表日期2010-08-12
专利国别中国
专利类型发明
权利人中国科学院半导体研究所
中文摘要一种GaN基日盲型紫外探测器面阵,包括:一衬底;一成核层,该成核层生长在衬底上;一N型欧姆接触层,该N型欧姆接触层生长在成核层上;一有源层,该有源层生长在N型欧姆接触层上;一P型欧姆接触层,该P型欧姆接触层生长在有源层上;一P型欧姆接触电极,该P型欧姆接触电极生长在P型欧姆接触层上;一二次金属,该二次金属生长在P型欧姆接触电极的上面;一N型欧姆接触电极,该N型欧姆接触电极生长在N型欧姆接触层上;一钝化层,该钝化层淀积在N型欧姆接触层、有源层、P型欧姆接触层、P型欧姆接触电极、二次金属和N型欧姆接触电极的两侧。
英文摘要一种GaN基日盲型紫外探测器面阵,包括:一衬底;一成核层,该成核层生长在衬底上;一N型欧姆接触层,该N型欧姆接触层生长在成核层上;一有源层,该有源层生长在N型欧姆接触层上;一P型欧姆接触层,该P型欧姆接触层生长在有源层上;一P型欧姆接触电极,该P型欧姆接触电极生长在P型欧姆接触层上;一二次金属,该二次金属生长在P型欧姆接触电极的上面;一N型欧姆接触电极,该N型欧姆接触电极生长在N型欧姆接触层上;一钝化层,该钝化层淀积在N型欧姆接触层、有源层、P型欧姆接触层、P型欧姆接触电极、二次金属和N型欧姆接触电极的两侧。; 于AD批量导入至AEzhangdi; Made available in DSpace on 2010-08-12T05:13:47Z (GMT). No. of bitstreams: 1 3582.pdf: 747016 bytes, checksum: d4333f6c398a78c4c8c259bcdadeb430 (MD5)
公开日期2010-01-16 ; 2010-08-12 ; 2010-10-15
申请日期2008-07-02
语种中文
专利申请号CN200810116040.7
专利代理汤保平:中科专利商标代理有限责任公司
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/13432]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
颜廷静. GaN基日盲型紫外探测器面阵及其制作方法. 2010-08-12.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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