柔性基材ITO透明导电膜的制备及性能研究
文献类型：学位论文
| 作者 | 宫骏 |
| 学位类别 | 博士 |
| 答辩日期 | 2010 |
| 授予单位 | 中国科学院金属研究所 |
| 授予地点 | 北京 |
| 导师 | 闻立时 |
| 关键词 | 柔性基材 透明导电膜 磁控溅射 ITO |
| 学位专业 | 材料加工工程 |
| 中文摘要 | "本论文以柔性显示用ITO薄膜为研究背景，选用PET聚酯膜为基材，采用中频磁控溅射工艺在PET聚酯膜上分别制备了SixOy和Al2O3阻挡层，采用直流磁控溅射分别在PET聚酯膜和100nm厚玻璃基材上制备ITO薄膜，研究了薄膜厚度、基体温度、气体流量等工艺参数对薄膜的光电性能、表面形貌及力学性能的影响。研究表明，中频磁控溅射制备的SixOy和Al2O3均是非晶薄膜，在可见和红外区的透过率达到80%以上，对氧和水蒸气具有良好的阻挡效果，可以提高聚合物基材的气密性3个数量级左右。制备的ITO薄膜具有高度可见光透过率和电导率，提高氧流量可以提高可见光透过率，但电导率会相应下降；提高基底温度可以提高ITO薄膜的电导率，退火处理也可以显著提高ITO薄膜的电导率。在PET基体上较低的沉积温度下ITO薄膜更易形成非晶或非晶与多晶的混合结构，在玻璃基材上ITO薄膜更易形成多晶结构。 以ITO薄膜为底阳极制备出ITO/NPB/Alq3/LiF/Al结构的有机发光二极管具有良好的发光效果，在相同的驱动电压下，其电流密度和发光亮度均明显高于用市场商用ITO玻璃所制备的器件。" |
| 公开日期 | 2013-04-12 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/64159]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 宫骏. 柔性基材ITO透明导电膜的制备及性能研究[D]. 北京. 中国科学院金属研究所. 2010. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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