纳米抛光液产业化关键技术
文献类型：成果
| 主要完成人 | 宋志棠等 |
| 获奖日期 | 2009 |
| 获奖类别 | 鉴定 |
| 获奖等级 | 无 |
| 中文摘要 | 随着半导体工业的飞速发展,化学机械抛光逐渐成为集成电路制造中的一项关键工艺,其中抛光液是CMP过程中重要的消耗品,长期以来国内主要硅材料厂及IC厂依赖进口,不仅价格昂贵,而且受制于人。中科院上海微系统所纳米技术研究室CMP小组开展了“纳米抛光液产业化关键技术”研究,致力于解决纳米磨料的制备技术、纳米磨料的纯化技术、抛光液配制技术、抛光液的应用技术等。结合国际CMP抛光液胶体二氧化硅的主流市场情况及我国胶体二氧化硅研究现状(粒径小且分布较宽、杂质含量高),CMP小组在国内率先解决粒径生长及纯化关键技术,采用 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/113484]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_成果 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 宋志棠等. 纳米抛光液产业化关键技术. 鉴定:无. 2009. |
入库方式： OAI收割
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