1.5～4.5MeVα粒子引起Lu;Ta和Au L亚壳层电离的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 蔡晓红 ; 陈熙萌 ; 刘兆远 ; 马树勋 ; 陈子纯 ; 徐谦 ; 刘惠萍 ; 马新文 |
| 刊名 | 兰州大学学报
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| 出版日期 | 1996-03-22 |
| 期号 | 01 |
| 中文摘要 | 以能量为１．５～４．５ＭｅＶ的α粒子轰击Ｌｕ;Ｔａ和Ａｕ靶;测得Ｌ亚壳层Ｘ射线产生截面．利用荧光产额和Ｃｏｓｔｅｒ－Ｋｒｏｎｉｇ跃迁几率等原子参数得到Ｌ亚壳层电离截面;将实验所得Ｌ亚壳层电离截面与ＥＣＰＳＳＲ理论预言值进行比较;对Ｌ１和Ｌ３亚壳层;理论值与实验结果符合较好．讨论了ＥＣＰＳＳＲ理论的Ｌ２亚壳层电离截面与实验结果的偏差来源． |
| 收录类别 | CNKI |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2013-01-23 |
| 源URL | [http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/10793]  |
| 专题 | 上海应用物理研究所_中科院上海原子核所2003年前 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 蔡晓红,陈熙萌,刘兆远,等. 1.5～4.5MeVα粒子引起Lu;Ta和Au L亚壳层电离的研究[J]. 兰州大学学报,1996(01). |
| APA | 蔡晓红.,陈熙萌.,刘兆远.,马树勋.,陈子纯.,...&马新文.(1996).1.5～4.5MeVα粒子引起Lu;Ta和Au L亚壳层电离的研究.兰州大学学报(01). |
| MLA | 蔡晓红,et al."1.5～4.5MeVα粒子引起Lu;Ta和Au L亚壳层电离的研究".兰州大学学报 .01(1996). |
入库方式： OAI收割
来源：上海应用物理研究所
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