基于微机的磁盘磁层测厚仪
文献类型：期刊论文
| 作者 | 林金锌 ; 王裕政 ; 江立人 ; 顾连学 ; 乐安全 |
| 刊名 | 核电子学与探测技术
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| 出版日期 | 1987-05-01 |
| 期号 | 02 |
| 中文摘要 | <正> 磁盘存贮器是电子计算机的主要外部设备;高密度大容量磁盘存贮器的研制和生产是发展计算机事业的重要组成部分。磁盘磁介质层的厚度;直接影响磁盘的信息记录密度和输出信号的幅度;是检验磁盘的一个重要参数。随着记录密度的不断提高;要求磁盘的磁层越来越薄。一般;涂敷于基底上的Fe_2O_3仅有零点几到2μm左右;采用传统的测厚技术难于测量。我们利用X荧光法并配用微机研制成磁盘磁层测厚仪;解决了这一测量问题。 |
| 收录类别 | CNKI |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2013-01-23 |
| 源URL | [http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/11601]  |
| 专题 | 上海应用物理研究所_中科院上海原子核所2003年前 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 林金锌,王裕政,江立人,等. 基于微机的磁盘磁层测厚仪[J]. 核电子学与探测技术,1987(02). |
| APA | 林金锌,王裕政,江立人,顾连学,&乐安全.(1987).基于微机的磁盘磁层测厚仪.核电子学与探测技术(02). |
| MLA | 林金锌,et al."基于微机的磁盘磁层测厚仪".核电子学与探测技术 .02(1987). |
入库方式： OAI收割
来源：上海应用物理研究所
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