用靶添加剂提高负溅射离子源流强的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 杜光天 |
| 刊名 | 核技术
 |
| 出版日期 | 1990 |
| 期号 | 02 |
| 中文摘要 | 用Hiconex834溅射负离子源研究了Cs_2CrO_4、CsF和CsI等靶添加剂。-定比例的Cs_2CrO_4既改善靶表面的铯覆盖又达到喷氧的效果;Fe~-、Ag~-和Cu~-的流强分别提高到纯铁、银和铜靶的10、6和3.5倍。此外;渗少量卤化铯到合适的金属靶内;可方便地制备强的相应卤素负离子束;用慕尼黑大学的高强度负溅射源;渗5％Fe_2O_3于铁靶中;使Fe~-流强提高了一倍。 |
| 收录类别 | CNKI |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2013-01-23 |
| 源URL | [http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/12289]  |
| 专题 | 上海应用物理研究所_中科院上海原子核所2003年前 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 杜光天. 用靶添加剂提高负溅射离子源流强的研究[J]. 核技术,1990(02). |
| APA | 杜光天.(1990).用靶添加剂提高负溅射离子源流强的研究.核技术(02). |
| MLA | 杜光天."用靶添加剂提高负溅射离子源流强的研究".核技术 .02(1990). |
入库方式： OAI收割
来源：上海应用物理研究所
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