用能量色散X荧光法测定磁盘磁层厚度
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王裕政 ; 林金锌 ; 江立人 ; 顾连学 |
| 刊名 | 核技术
 |
| 出版日期 | 1986 |
| 期号 | 09 |
| 中文摘要 | 用放射源~(238)Pu激发磁盘磁层中铁的特征X荧光来测定磁层厚度;具有快速、非破坏、精度高等优点。本文叙述测量原理、探测装置考虑、干扰因素的排除及数据处理。测定厚度范围为0.5—15μm。当厚度大于1μm时;测量精度好于5％。 |
| 收录类别 | CNKI |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2013-01-23 |
| 源URL | [http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/12333]  |
| 专题 | 上海应用物理研究所_中科院上海原子核所2003年前 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王裕政,林金锌,江立人,等. 用能量色散X荧光法测定磁盘磁层厚度[J]. 核技术,1986(09). |
| APA | 王裕政,林金锌,江立人,&顾连学.(1986).用能量色散X荧光法测定磁盘磁层厚度.核技术(09). |
| MLA | 王裕政,et al."用能量色散X荧光法测定磁盘磁层厚度".核技术 .09(1986). |
入库方式： OAI收割
来源：上海应用物理研究所
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