低能离子束方法制备磁性Fe-Si合金薄膜
文献类型：期刊论文
| 作者 | 陈诺夫 ; 刘力锋
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| 刊名 | 功能材料
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| 出版日期 | 2004-08-25 |
| 期号 | 4页码:429-431 |
| 关键词 | 低能离子束 硅 铁磁性 磁性半导体 |
| 通讯作者 | 刘力锋 |
| 中文摘要 | 利用质量分离的低能离子束技术,获得了磁性Fe Si合金薄膜。利用俄歇电子能谱法(AES)、X射线衍射法(XRD)以及交变梯度样品磁强计(AGM)测试了样品的组分、结构以及磁特性。测试结果表明在室温下制备的Fe Si合金是Fe组分渐变的非晶薄膜,具有室温铁磁性。当衬底温度为300℃时制备的非晶Fe Si薄膜中有Fe硅化物FeSi相产生,样品的铁磁性被抑制。 |
| 资助信息 | 国家自然科学基金资助项目(60176001); 国家重大基础研究计划资助项目(G20000365和G2002CB311905) |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-08-03 ; 2010-08-20 |
| 源URL | [http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/42044]  |
| 专题 | 力学研究所_力学所知识产出(1956-2008) |
| 通讯作者 | 刘力锋 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈诺夫,刘力锋. 低能离子束方法制备磁性Fe-Si合金薄膜[J]. 功能材料,2004(4):429-431. |
| APA | 陈诺夫,&刘力锋.(2004).低能离子束方法制备磁性Fe-Si合金薄膜.功能材料(4),429-431. |
| MLA | 陈诺夫,et al."低能离子束方法制备磁性Fe-Si合金薄膜".功能材料 .4(2004):429-431. |
入库方式： OAI收割
来源：力学研究所
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