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Radiation response of pseudo-MOS transistors fabricated in hardened fully-depleted SIMOX SOI wafers

文献类型:期刊论文

作者Bi, DW ; Zhang, ZX(重点实验室) ; Zhang, S ; Chen, M ; Yu, WJ ; Wang, R ; Tian, H ; Liu, ZL
刊名CHINESE PHYSICS C
出版日期2009
卷号33期号:10页码:866-869
关键词Physics Physics Nuclear Particles & Fields
ISSN号1674-1137
学科主题Physics
收录类别SCI
语种英语
公开日期2013-05-10
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/115101]  
专题上海微系统与信息技术研究所_信息功能材料国家重点实验室2008-2012_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
Bi, DW,Zhang, ZX,Zhang, S,et al. Radiation response of pseudo-MOS transistors fabricated in hardened fully-depleted SIMOX SOI wafers[J]. CHINESE PHYSICS C,2009,33(10):866-869.
APA Bi, DW.,Zhang, ZX.,Zhang, S.,Chen, M.,Yu, WJ.,...&Liu, ZL.(2009).Radiation response of pseudo-MOS transistors fabricated in hardened fully-depleted SIMOX SOI wafers.CHINESE PHYSICS C,33(10),866-869.
MLA Bi, DW,et al."Radiation response of pseudo-MOS transistors fabricated in hardened fully-depleted SIMOX SOI wafers".CHINESE PHYSICS C 33.10(2009):866-869.

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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