Fabrication of horizontal silicon nanowire arrays on insulator by ion irradiation
文献类型：期刊论文
| 作者 | Ou, X ; Kogler, R ; Wei, X ; Mucklich, A ; Wang, X ; Skorupa, W ; Facsko, S |
| 刊名 | AIP ADVANCES
 |
| 出版日期 | 2011 |
| 卷号 | 1期号:4页码:42174 |
| 关键词 | Nanoscience & Nanotechnology Materials Science Physics Multidisciplinary Applied |
| ISSN号 | 2158-3226 |
| 通讯作者 | Ou, X (reprint author), Helmholtz Zentrum Dresden Rossendorf HZDR eV, Inst Ion Beam Phys & Mat Res, POB 510119, D-01314 Dresden, Germany. |
| 学科主题 | Science & Technology - Other Topics; Materials Science; Physics |
| 收录类别 | SCI |
| 原文出处 | 10.1063/1.3672074 |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2013-05-10 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/115139]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_信息功能材料国家重点实验室2008-2012_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Ou, X,Kogler, R,Wei, X,et al. Fabrication of horizontal silicon nanowire arrays on insulator by ion irradiation[J]. AIP ADVANCES,2011,1(4):42174. |
| APA | Ou, X.,Kogler, R.,Wei, X.,Mucklich, A.,Wang, X.,...&Facsko, S.(2011).Fabrication of horizontal silicon nanowire arrays on insulator by ion irradiation.AIP ADVANCES,1(4),42174. |
| MLA | Ou, X,et al."Fabrication of horizontal silicon nanowire arrays on insulator by ion irradiation".AIP ADVANCES 1.4(2011):42174. |
入库方式： OAI收割
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