Layer-by-layer thinning of graphene by plasma irradiation and post-annealing
文献类型：期刊论文
| 作者 | Yang, XC ; Tang, SJ ; Ding, GQ ; Xie, XM(重点实验室） ; Jiang, MH(重点实验室） ; Huang, FQ |
| 刊名 | NANOTECHNOLOGY
 |
| 出版日期 | 2012 |
| 卷号 | 23期号:2页码:25704 |
| 关键词 | Nanoscience & Nanotechnology Materials Science Physics Multidisciplinary Applied |
| ISSN号 | 0957-4484 |
| 学科主题 | Science & Technology - Other Topics; Materials Science; Physics |
| 收录类别 | SCI |
| 原文出处 | 10.1088/0957-4484/23/2/025704 |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2013-05-10 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/115203]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_信息功能材料国家重点实验室2008-2012_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Yang, XC,Tang, SJ,Ding, GQ,et al. Layer-by-layer thinning of graphene by plasma irradiation and post-annealing[J]. NANOTECHNOLOGY,2012,23(2):25704. |
| APA | Yang, XC,Tang, SJ,Ding, GQ,Xie, XM,Jiang, MH,&Huang, FQ.(2012).Layer-by-layer thinning of graphene by plasma irradiation and post-annealing.NANOTECHNOLOGY,23(2),25704. |
| MLA | Yang, XC,et al."Layer-by-layer thinning of graphene by plasma irradiation and post-annealing".NANOTECHNOLOGY 23.2(2012):25704. |
入库方式： OAI收割
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