Study on Interface Adhesion between Phase Change Material Film and SiO2 Layer by Nanoscratch Test
文献类型：期刊论文
| 作者 | Zhou, XL ; Wu, LC ; song, zt(重点实验室） ; Rao, F ; Ren, K ; Peng, C ; Guo, XH ; Liu, B(重点实验室） ; Feng, SL(重点实验室） |
| 刊名 | JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
 |
| 出版日期 | 2011 |
| 卷号 | 50期号:9页码:91402 |
| 关键词 | Physics Applied |
| ISSN号 | 0021-4922 |
| 学科主题 | Physics |
| 收录类别 | SCI |
| 原文出处 | 10.1143/JJAP.50.091402 |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2013-05-10 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/115523]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_信息功能材料国家重点实验室2008-2012_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Zhou, XL,Wu, LC,song, zt,et al. Study on Interface Adhesion between Phase Change Material Film and SiO2 Layer by Nanoscratch Test[J]. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,2011,50(9):91402. |
| APA | Zhou, XL.,Wu, LC.,song, zt.,Rao, F.,Ren, K.,...&Feng, SL.(2011).Study on Interface Adhesion between Phase Change Material Film and SiO2 Layer by Nanoscratch Test.JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,50(9),91402. |
| MLA | Zhou, XL,et al."Study on Interface Adhesion between Phase Change Material Film and SiO2 Layer by Nanoscratch Test".JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 50.9(2011):91402. |
入库方式： OAI收割
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。