Mechanism of Ge2Sb2Te5 chemical mechanical polishing
文献类型：期刊论文
| 作者 | Wang, LY ; song, zt(重点实验室） ; Zhong, M ; Liu, WL ; Yan, WX ; Qin, F ; He, AD ; Liu, B(重点实验室） |
| 刊名 | APPLIED SURFACE SCIENCE
 |
| 出版日期 | 2012 |
| 卷号 | 258期号:12页码:5185-5190 |
| 关键词 | Chemistry Materials Science Physics Physics Physical Coatings & Films Applied Condensed Matter |
| ISSN号 | 0169-4332 |
| 学科主题 | Chemistry; Materials Science; Physics |
| 收录类别 | SCI |
| 原文出处 | 10.1016/j.apsusc.2012.02.001 |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2013-05-10 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/115550]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_信息功能材料国家重点实验室2008-2012_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Wang, LY,song, zt,Zhong, M,et al. Mechanism of Ge2Sb2Te5 chemical mechanical polishing[J]. APPLIED SURFACE SCIENCE,2012,258(12):5185-5190. |
| APA | Wang, LY.,song, zt.,Zhong, M.,Liu, WL.,Yan, WX.,...&Liu, B.(2012).Mechanism of Ge2Sb2Te5 chemical mechanical polishing.APPLIED SURFACE SCIENCE,258(12),5185-5190. |
| MLA | Wang, LY,et al."Mechanism of Ge2Sb2Te5 chemical mechanical polishing".APPLIED SURFACE SCIENCE 258.12(2012):5185-5190. |
入库方式： OAI收割
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