低能离子束方法制备Fe组分渐变的Fe-Si薄膜
文献类型：期刊论文
| 作者 | 陈诺夫 ; 刘力锋
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| 刊名 | 稀有金属
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| 出版日期 | 2004-06-30 |
| 卷号 | 28期号:3页码:558-562 |
| 关键词 | 低能离子束 硅 铁 薄膜 |
| 通讯作者 | 刘力锋 |
| 中文摘要 | 利用质量分离的低能离子束技术 ,获得了Fe组分渐变的Fe Si薄膜。利用俄歇电子能谱法 (AES)、X射线衍射法 (XRD)以及X射线光电子能谱法 (XPS)测试了薄膜的组分、结构特性。测试结果表明 ,在室温下制备的Fe Si薄膜呈非晶态。非晶薄膜在 40 0℃下退火 2 0min后晶化 ,没有Fe的硅化物相形成。退火后Fe Si薄膜的Fe组分从表面向内部逐渐降低。 |
| 资助信息 | 国家自然科学基金 ( 60 1760 0 1,60 3 90 0 72 ) |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-08-03 ; 2010-08-20 |
| 源URL | [http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/42156]  |
| 专题 | 力学研究所_力学所知识产出(1956-2008) |
| 通讯作者 | 刘力锋 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈诺夫,刘力锋. 低能离子束方法制备Fe组分渐变的Fe-Si薄膜[J]. 稀有金属,2004,28(3):558-562. |
| APA | 陈诺夫,&刘力锋.(2004).低能离子束方法制备Fe组分渐变的Fe-Si薄膜.稀有金属,28(3),558-562. |
| MLA | 陈诺夫,et al."低能离子束方法制备Fe组分渐变的Fe-Si薄膜".稀有金属 28.3(2004):558-562. |
入库方式： OAI收割
来源：力学研究所
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