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掺Te的GaSb薄膜分子束外延生长及缺陷特性

文献类型:期刊论文

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作者陈燕,邓爱红,汤宝,王国伟,徐应强,牛智川
刊名红外与毫米波学报 ; 红外与毫米波学报
出版日期2012 ; 2012
卷号31期号:4页码:298-301
学科主题半导体物理 ; 半导体物理
收录类别CSCD
语种中文 ; 中文
公开日期2013-05-29 ; 2013-05-29
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/24104]  
专题半导体研究所_半导体超晶格国家重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
陈燕,邓爱红,汤宝,王国伟,徐应强,牛智川. 掺Te的GaSb薄膜分子束外延生长及缺陷特性, 掺Te的GaSb薄膜分子束外延生长及缺陷特性[J]. 红外与毫米波学报, 红外与毫米波学报,2012, 2012,31, 31(4):298-301, 298-301.
APA 陈燕,邓爱红,汤宝,王国伟,徐应强,牛智川.(2012).掺Te的GaSb薄膜分子束外延生长及缺陷特性.红外与毫米波学报,31(4),298-301.
MLA 陈燕,邓爱红,汤宝,王国伟,徐应强,牛智川."掺Te的GaSb薄膜分子束外延生长及缺陷特性".红外与毫米波学报 31.4(2012):298-301.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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