Adhesion effect of interface layers on pattern fabrication with GeSbTe as laser thermal lithography film
文献类型：期刊论文
| 作者 | Deng CM(邓常猛) ; Geng YY(耿永友) ; Wu YQ(吴谊群) ; Wang Y(王阳) ; Wei JS(魏劲松) |
| 刊名 | microelectronic engineering
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| 出版日期 | 2013 |
| 期号 | 103页码:7-11 |
| WOS记录号 | WOS:000314672300002 |
| 公开日期 | 2013-06-09 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/10992]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_高密度光存储技术实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Deng CM,Geng YY,Wu YQ,et al. Adhesion effect of interface layers on pattern fabrication with GeSbTe as laser thermal lithography film[J]. microelectronic engineering,2013(103):7-11. |
| APA | Deng CM,Geng YY,Wu YQ,Wang Y,&Wei JS.(2013).Adhesion effect of interface layers on pattern fabrication with GeSbTe as laser thermal lithography film.microelectronic engineering(103),7-11. |
| MLA | Deng CM,et al."Adhesion effect of interface layers on pattern fabrication with GeSbTe as laser thermal lithography film".microelectronic engineering .103(2013):7-11. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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