PLC可控的旋转横向磁场辅助电弧离子镀设备
文献类型：专利
| 作者 | 肖金泉, 郎文昌, 孙超, 宫骏, 赵彦辉, 杨英, 华伟刚 and 闻立时 |
| 发表日期 | 2008-12-10 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 权利人 | 中国科学院金属研究所 |
| 中文摘要 | 本实用新型涉及薄膜制备领域,具体地说是一种利用旋转磁场控制弧斑运动 的PLC可控的旋转横向磁场辅助电弧离子镀设备。该电弧离子镀设备设有靶材、 旋转磁场装置、电磁线圈、绝缘套、法兰、真空室、基体夹座,真空室内设置基 体夹座、靶材,靶材正面与基体夹座相对,靶材背面设有电磁线圈,置于真空室 外的旋转磁场发生装置套在围绕于靶材之外的法兰套或者炉体管道上,与法兰套 或者炉体管道之间通过绝缘保护。本实用新型通过PLC可控的多模式可编程调制 的旋转横向磁场控制弧斑的运动,可以改善弧斑的放电形式和工作稳定性,提高 靶材刻蚀均匀性和靶材利用率,减少靶材大颗... |
| 公开日期 | 2008-12-10 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | CN201162038 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/65808]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 肖金泉, 郎文昌, 孙超, 宫骏, 赵彦辉, 杨英, 华伟刚 and 闻立时. PLC可控的旋转横向磁场辅助电弧离子镀设备. 2008-12-10. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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