一种电弧离子镀铁磁性复合结构靶材
文献类型：专利
| 作者 | 孙超, 常正凯, 肖金泉, 宫骏, 华伟刚 and 陈育秋 |
| 发表日期 | 2012-07-11 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 权利人 | 中国科学院金属研究所 |
| 中文摘要 | 本实用新型属于薄膜制备领域,具体地说是一种电弧离子镀铁磁性复合结构靶材。所述复合结构靶材包括高磁导率的软磁性材料靶壳与铁磁性材料靶材,所述铁磁性材料靶材与软磁性材料靶壳相连。本实用新型复合结构靶材解决了由于铁磁性靶材表面增加沟槽克服磁屏蔽时,降低了靶材使用寿命,进而本实用新型复合结构靶材解决了为改变靶面磁力线分布,在沉积系统中附加耦合磁场所带来的设备操作复杂及成本增加问题。 |
| 公开日期 | 2012-07-11 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | CN202322989U |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/66710]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 孙超, 常正凯, 肖金泉, 宫骏, 华伟刚 and 陈育秋. 一种电弧离子镀铁磁性复合结构靶材. 2012-07-11. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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