一种离子镀弧斑控制装置
文献类型：专利
| 作者 | 肖金泉, 郎文昌, 孙超, 宫骏, 赵彦辉, 华伟刚 and 闻立时 |
| 发表日期 | 2009-02-04 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 权利人 | 中国科学院金属研究所 |
| 中文摘要 | 本实用新型涉及薄膜制备领域,具体地说是一种新型离子镀弧斑控制装置, 所述新型离子镀弧斑控制装置的靶材底座后面设有由小型直流电机或者交流电机 驱动的旋转磁场发生装置,电机驱动固定在电机转轴上的磁轭带动合理分布在磁 轭上的永磁体转动,不同的永磁体分布产生不同位形结构的旋转磁场,实现多控 制模式的目的。本实用新型利用简单紧凑的装置结构和不同的永磁体分布方式, 产生不同位形的动态旋转磁场,用以改善弧斑的放电形式,控制弧斑的运动轨迹, 提高靶材利用率和刻蚀均匀性,减少或抑制靶材大颗粒的发射,用以制备高质量 的薄膜,达到在一个离子镀弧斑控制装置上实现... |
| 公开日期 | 2009-02-04 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | CN201190180 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/67195]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 肖金泉, 郎文昌, 孙超, 宫骏, 赵彦辉, 华伟刚 and 闻立时. 一种离子镀弧斑控制装置. 2009-02-04. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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