一种铜膜的制备方法
文献类型：专利
| 作者 | 卢磊, 斯晓, 陶乃∴, 隋曼龄 and 卢柯 |
| 发表日期 | 2001-10-10 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利类型 | 发明专利 |
| 权利人 | 中国科学院金属研究所 |
| 中文摘要 | 一种铜膜的制备方法,其特征在于：以晶粒尺寸小于100nm的纳米金属Cu为原材料,纯度高于99.995wt％,密度为8.91±0.03g/cm3,在室温冷轧,变形速率：1×10－5～1×101/s。本发明制备出的铜膜表面质量好,可以达到很薄的厚度,并且工艺简单,使用普通的轧制设备即可实现。 |
| 公开日期 | 2001-10-10 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | CN1316304 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/67588]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 卢磊, 斯晓, 陶乃∴, 隋曼龄 and 卢柯. 一种铜膜的制备方法. 2001-10-10. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。