一种氧化锆涂层制备工艺
文献类型：专利
| 作者 | 孙超, 王启民, 宫骏, 王铁刚, 刘山川, 华伟刚, 鲍泽斌, 肖金泉 and 闻立时 |
| 发表日期 | 2008-11-19 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利类型 | 发明专利 |
| 权利人 | 中国科学院金属研究所 |
| 中文摘要 | 本发明涉及涂层制备技术,具体地说是一种氧化锆涂层的制备工艺,采用电 弧离子镀技术在合金基体或电弧离子镀MCrAlY涂层上利用纯Zr或ZrY合金靶 材在O2气氛内反应沉积ZrO2或Zr(Y)O2涂层。本发明所涉及的这种氧化锆涂层 制备工艺具有好的工艺重复性和容易实现工业化生产等优点,制得的ZrO2和 Zr(Y)O2涂层组织均匀致密,为柱状晶结构,具有良好的结合强度,Zr(Y)O2涂层 抗热冲击性能优良。 |
| 公开日期 | 2008-11-19 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | CN101307424 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/67676]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 孙超, 王启民, 宫骏, 王铁刚, 刘山川, 华伟刚, 鲍泽斌, 肖金泉 and 闻立时. 一种氧化锆涂层制备工艺. 2008-11-19. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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