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一种用于薄膜非接触热膨胀测量的低温装置

文献类型:专利

作者王宝全, 陈新贵, 何冠虎 and 郭敬东
发表日期2009-01-28
专利国别中国
专利类型实用新型
权利人中国科学院金属研究所
中文摘要本实用新型涉及用于薄膜非接触热膨胀测量技术,具体为一种用于薄膜非接 触热膨胀测量的低能耗低温装置(-130℃~250℃)。该装置设有低温-高温炉系统、 试样架系统,低温-高温炉系统采用两级真空双层结构,置于低温-高温炉系统中 的加热器采用锥型-沟槽型结构,置于加热器中的试样架系统采用弹性夹持结构。 本实用新型用非接触方法测量薄膜热膨胀的低能耗,将温度范围扩展到低温,低 温装置在1.5小时内使试样降低到-130℃,耗用液氮5升。
公开日期2009-01-28
语种中文
专利申请号CN201188091
源URL[http://210.72.142.130/handle/321006/67740]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
王宝全, 陈新贵, 何冠虎 and 郭敬东. 一种用于薄膜非接触热膨胀测量的低温装置. 2009-01-28.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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