一种用于制备非晶薄膜的电弧离子镀冷却装置
文献类型：专利
| 作者 | 肖金泉, 常正凯, 孙超, 宫骏 and 华伟刚 |
| 发表日期 | 2012-01-18 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 权利人 | 中国科学院金属研究所 |
| 中文摘要 | 本实用新型属于薄膜制备领域,具体地说是一种用于制备非晶薄膜的电弧离子镀冷却装置,包括冷凝剂输入管、冷凝剂输出管、法兰盘、绝缘垫圈及样品台,其中法兰盘通过绝缘垫圈密封安装在电弧离子镀炉体上,所述冷凝剂输入管及冷凝剂输出管的一端分别安装在法兰盘上,并由法兰盘穿出分别与外部流速可控的冷凝剂循环系统的进、出水口连接,冷凝剂输入管及冷凝剂输出管的另一端连接有样品台,该样品台及法兰盘以下的部分冷凝剂输入管和冷凝剂输出管均位于电弧离子镀炉体的真空腔体内；冷却装置可用于非晶薄膜的制备过程中。本实用新型传承了电弧离子镀沉积速率快的优点,基体温度可有效控制,最终达到改变薄膜结构、进而提高薄膜性能的目的。 |
| 公开日期 | 2012-01-18 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | CN202116640U |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/67764]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 肖金泉, 常正凯, 孙超, 宫骏 and 华伟刚. 一种用于制备非晶薄膜的电弧离子镀冷却装置. 2012-01-18. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。