氧化膜应力改变的双面氧化弯曲测量技术
文献类型：专利
| 作者 | 李美栓 ; 李铁藩 ; 华伟刚 辛丽 沈嘉年 周龙江 |
| 发表日期 | 2002-09-18 |
| 专利国别 | 中国 |
| 权利人 | 中国科学院金属研究所 |
| 公开日期 | 2013-06-19 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | 97100973.2 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/68083]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李美栓,李铁藩,华伟刚 辛丽 沈嘉年 周龙江. 氧化膜应力改变的双面氧化弯曲测量技术. 2002-09-18. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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