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PLC可控的旋转横向磁场辅助电弧离子设备

文献类型:专利

作者肖金泉 郎文昌 孙超 宫骏 赵彦辉 杨英 华伟刚 闻立时
发表日期2008-12-10
专利国别中国
权利人中国科学院金属研究所
公开日期2013-06-19
语种中文
专利申请号200820011753.2
源URL[http://210.72.142.130/handle/321006/68216]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
肖金泉 郎文昌 孙超 宫骏 赵彦辉 杨英 华伟刚 闻立时. PLC可控的旋转横向磁场辅助电弧离子设备. 2008-12-10.

入库方式: OAI收割

来源:金属研究所

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