抗原子氧侵蚀的有机硅/ 二氧化硅杂化涂层及制备方法和应用
文献类型：专利
| 作者 | 多树旺 李美栓 朱明 张亚明 周延春 |
| 发表日期 | 2009-04-29 |
| 专利国别 | 中国 |
| 权利人 | 中国科学院金属研究所 |
| 公开日期 | 2013-06-19 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | 200310119054.1 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/68229]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 多树旺 李美栓 朱明 张亚明 周延春. 抗原子氧侵蚀的有机硅/ 二氧化硅杂化涂层及制备方法和应用. 2009-04-29. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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