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可控电参数的低位错磷化铟单晶制备

文献类型:成果

主要完成人叶式中 ; 刘巽琅 ; 刘思林 ; 孙同年 ; 焦景华
获奖日期1985
获奖类别国家科技进步奖
获奖等级三等奖
关键词磷化铟
学科主题半导体材料
英文摘要于G批量导入至Hzhangdi; Made available in DSpace on 2010-04-13T00:43:32Z (GMT). No. of bitstreams: 0 Previous issue date: 1985
语种中文
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/10932]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
叶式中,刘巽琅,刘思林,等. 可控电参数的低位错磷化铟单晶制备. 国家科技进步奖:三等奖. 1985.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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