LaMnO3薄膜界面应力耦合
文献类型:期刊论文
| 作者 | R.K. Zheng ; Y. Wang99 ; H.-U. Habermeier99 ; H.L.W. Chanb ; 99 ; X.M. Li ; H.S. Luoa |
| 刊名 | Journal of Alloys and Compounds
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| 出版日期 | 2012-03-07 |
| 期号 | 519页码:77-81 |
| ISSN号 | 0925-8388 |
| 其他题名 | nterface strain coupling and its impact on the transport and magnetic properties of LaMnO3 thin films grown on ferroelectrically active substrates |
| 通讯作者 | R.K. Zheng |
| 学科主题 | 材料科学 |
| 收录类别 | SCI收录,SSCI收录 |
| 公开日期 | 2013-07-19 |
| 源URL | [http://ir.sic.ac.cn/handle/331005/3440] ![]() |
| 专题 | 上海硅酸盐研究所_高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | R.K. Zheng,Y. Wang99,H.-U. Habermeier99,等. LaMnO3薄膜界面应力耦合[J]. Journal of Alloys and Compounds,2012(519):77-81. |
| APA | R.K. Zheng.,Y. Wang99.,H.-U. Habermeier99.,H.L.W. Chanb.,99.,...&H.S. Luoa.(2012).LaMnO3薄膜界面应力耦合.Journal of Alloys and Compounds(519),77-81. |
| MLA | R.K. Zheng,et al."LaMnO3薄膜界面应力耦合".Journal of Alloys and Compounds .519(2012):77-81. |
入库方式: OAI收割
来源:上海硅酸盐研究所
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