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低温离子镀TiN薄膜性能研究

文献类型：成果

主要完成人刘技文 ; 于力 ; 赵杰 ; 王慧君
获奖日期2002
关键词离子镀 低温离子镀 TiN薄膜 性能 金属覆层 耐磨性
中文摘要研究低温条件下(＜450℃)离子镀TiN的可行性及对性能的影响，发现在150～450℃模材的显微硬度、耐磨性、显微结构均能满足实用要求，添加稀土元素增加模材与基材的结合力。对进一步开展应用有着重要的指导意义。
语种中文
源URL[http://210.72.142.130/handle/321006/68542]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
推荐引用方式
GB/T 7714		 刘技文,于力,赵杰,等. 低温离子镀TiN薄膜性能研究. . 2002.

入库方式： OAI收割

来源：金属研究所

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