热解石墨涂层外延基座
文献类型：成果
| 主要完成人 | 赵凤鸣 ; 姜维新 ; 王勇 ; 刘玉环 |
| 获奖日期 | 1985 |
| 关键词 | 外延片 气相外延 石墨 外延基座 涂层 热解石墨 |
| 中文摘要 | 该项成果用于硅气相外延，制备高质量的外延片。热解石墨外延基座的主要技术指标如下：电性能好，如金属一样的导电，适于感应加热，“α”向电阻率２０μΩ·ｃｍ，“ｃ”向电阻率１０００００μΩ·ｃｍ；在基座的表面方向上有近于金属的导热性良好的抗热震性；气密性好，化学稳定性高；纯度高，杂质含量在ｐｐｍ数量级。该项成果若在全国推广，经济效益很大。 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/68920]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵凤鸣,姜维新,王勇,等. 热解石墨涂层外延基座. . 1985. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。