真空镀铝用特制石墨坩埚
文献类型：成果
| 主要完成人 | 韩耀文 ; 郭文全 ; 燕广远 |
| 获奖日期 | 1989 |
| 关键词 | 镀铝 电镀 真空 石墨 坩埚 |
| 中文摘要 | 该项成果通过研究真空镀铝过程坩埚的损毁机理，研制出四种不同的坩埚，并筛选出最佳的用合成树脂碳化物填充提高坩埚密度与质量的工艺方法。其坩埚的主要技术指标为：灰分：≤０．５％；硬度（肖氏）：４０－５０°；体积密度（ｇｃｍˉ）：１．７５～１．８４；抗压强度（ｋｇｆ／ｃｍ）：５００～６００；抗折强度（ｋｇｆ／ｃｍ）：≥２５０；电阻率（Ωｍｍ／ｍ）：５～２０；平均真空熔铝寿命（次数）：≥１２。该坩埚通过试用证明，它与国外同类坩埚的性能和熔铝寿命基本相同，可代替进口产品，经济效益显著。它为国内首创产品，填补了国内的空白。 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://210.72.142.130/handle/321006/69302]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 韩耀文,郭文全,燕广远. 真空镀铝用特制石墨坩埚. . 1989. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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