H↓（2）分子在Ni（100）、（110）、（111）单晶表面吸附研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 周鲁1; 吕日昌2; 孙本繁2 |
| 刊名 | 成都科技大学学报
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| 出版日期 | 1996-01-01 |
| 卷号 | 000期号:003页码:49 |
| ISSN号 | 0253-2263 |
| 英文摘要 | 本文采用改进模型势方法，计算了Ｈ２分子在Ｎｉ（１００）、（１１０）、（１１１）单晶表面解离吸附的反应途径与位能面。通过对比研究，讨论了氢分子在镍三种单晶表面解离吸附的反应途径和位能面的一般规律与趋势。 |
| 语种 | 英语 |
| 源URL | [http://cas-ir.dicp.ac.cn/handle/321008/174930]  |
| 专题 | 大连化学物理研究所_中国科学院大连化学物理研究所 |
| 作者单位 | 1.四川大学 2.中国科学院大连化学物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 周鲁,吕日昌,孙本繁. H↓（2）分子在Ni（100）、（110）、（111）单晶表面吸附研究[J]. 成都科技大学学报,1996,000(003):49. |
| APA | 周鲁,吕日昌,&孙本繁.(1996).H↓（2）分子在Ni（100）、（110）、（111）单晶表面吸附研究.成都科技大学学报,000(003),49. |
| MLA | 周鲁,et al."H↓（2）分子在Ni（100）、（110）、（111）单晶表面吸附研究".成都科技大学学报 000.003(1996):49. |
入库方式： OAI收割
来源：大连化学物理研究所
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