一种制备含钝化层的高损伤阈值减反膜方法
文献类型：专利
| 作者 | 范杰; 董家宁; 李卫岩; 石琳琳; 金亮; 李岩; 张贺; 徐英添; 王海珠; 赵鑫 |
| 专利号 | CN109234673A |
| 著作权人 | 长春理工大学 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明申请 |
| 其他题名 | 一种制备含钝化层的高损伤阈值减反膜方法 |
| 英文摘要 | 本发明属于光学镀膜技术领域，具体涉及一种制备含钝化层的高损伤阈值减反膜方法，包括以下步骤：1)清洁基底；2)将基底放入电子束真空镀膜机中，控制真空度和温度；3)使用离子源对基底表面清洗；4)使用电子束蒸发方式镀制钝化膜；5)提高基底温度至200℃～300℃，保温30min～120min；6)降低基底温度至100℃左右；7)在钝化膜上用高折射率膜料和低折射率膜料进行交替镀膜，直至最后一层膜镀制完成；8)利用电子束真空镀膜机内真腔室冷却至室温后，拿出基底，镀制完成。该方法具有针对性强、简单易行的特点，该方法极大提高含钝化层的减反膜的LIDT，从而提高半导体激光器的稳定性，最终实现半导体激光器输出功率进一步提升。 |
| 公开日期 | 2019-01-18 |
| 申请日期 | 2018-11-06 |
| 状态 | 申请中 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/43380]  |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 长春理工大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 范杰,董家宁,李卫岩,等. 一种制备含钝化层的高损伤阈值减反膜方法. CN109234673A. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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