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半導体レーザダイオード及びその製造方法並びに半導体レーザダイオードアレイ

文献类型:专利

作者杵築 弘隆
专利号JP1994152074A
著作权人三菱電機株式会社
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザダイオード及びその製造方法並びに半導体レーザダイオードアレイ
英文摘要【目的】 放熱特性に優れた、高出力,長寿命の選択PHS構造半導体レーザダイオード及び選択PHS構造半導体レーザダイオードアレイを得る。 【構成】 半導体基板の第1の面上にレーザダイオード構造の活性領域を有し、上記半導体基板の第2の面に選択的に埋め込まれたPHS電極を備えた半導体レーザダイオードにおいて、レーザダイオード構造の活性領域が半導体基板より内側の領域に形成されており、上記活性領域の共振器方向の長さをA、上記PHS電極の共振器方向の長さをBとしたときにA≦Bとなるように構成し、さらに半導体基板のレーザ発光端面より外側の領域をレーザ光のビーム広がりの領域に入らないような角度でテーパ状に加工して構成する。
公开日期1994-05-31
申请日期1993-01-25
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/43650]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位三菱電機株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
杵築 弘隆. 半導体レーザダイオード及びその製造方法並びに半導体レーザダイオードアレイ. JP1994152074A.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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