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分布帰還型半導体レーザ素子の製造方法及び分布帰還型半導体レーザ素子

文献类型:专利

作者武井 清; 渡部 義昭; 陳 農; 竹間 清文
专利号JP1998275959A
著作权人PIONEER ELECTRON CORP
国家日本
文献子类发明申请
其他题名分布帰還型半導体レーザ素子の製造方法及び分布帰還型半導体レーザ素子
英文摘要【課題】 生産効率の良い分布帰還型半導体レーザ素子の製造方法を提供し、高歩留り、低コスト、高品質な分布帰還型半導体レーザ素子を提供することを目的とする。 【解決手段】 分布帰還型半導体レーザ素子の製造方法であって、レーザ基板を形成する工程と、レーザ基板上にグレーティングを形成する工程と、グレーティングが形成されたレーザ基板をエッチングすることにより、ストライプ方向にリッジを形成する工程と、電極を形成する工程と、を含むことを特徴とする。
公开日期1998-10-13
申请日期1997-03-28
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/43855]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位PIONEER ELECTRON CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
武井 清,渡部 義昭,陳 農,等. 分布帰還型半導体レーザ素子の製造方法及び分布帰還型半導体レーザ素子. JP1998275959A.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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