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半導体レーザ装置およびその製造方法ならびに光通信システム

文献类型:专利

作者稲葉 雄一; 鬼頭 雅弘; 石野 正人
专利号JP1999238938A
著作权人MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
国家日本
文献子类发明申请
其他题名半導体レーザ装置およびその製造方法ならびに光通信システム
英文摘要【課題】 劈開プロセスを省略した簡易な製造工程によって製造され得る半導体レーザ装置を提供する。 【解決手段】 半導体基板101の表面の選択された領域上に半導体多層構造を備える。半導体多層構造の共振器端面として機能する面は、選択エピタキシャル成長によって形成された結晶成長面である。選択成長は半導体基板の表面にマスク102を形成した後に行い、共振器端面は劈開プロセスを経ずに選択制長によって自己整合的に形成される。マスク102の開口部の形状が共振器の構造を規定するのに利用される。
公开日期1999-08-31
申请日期1998-02-20
状态失效
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/43883]  
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
稲葉 雄一,鬼頭 雅弘,石野 正人. 半導体レーザ装置およびその製造方法ならびに光通信システム. JP1999238938A.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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